Micro and Nano-electro-mechanical devices in the CMOS back end and their applications

dc.contributor
Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica
dc.contributor.author
Riverola Borreguero, Martín
dc.date.accessioned
2018-01-02T17:01:31Z
dc.date.available
2018-01-02T17:01:31Z
dc.date.issued
2017-12-04
dc.identifier.isbn
9788449076336
dc.identifier.uri
http://hdl.handle.net/10803/458694
dc.description.abstract
Recentment, l'escalat de la tecnologia complementaria metall-òxid-semiconductor (CMOS) està arribant a límits fonamentals, principalment degut a les fuites de corrent no nul·les que el transistor presenta. És per això que s’està investigant una nova branca que va més enllà dels límits de la llei de Moore la qual s’anomena “Més que Moore” i està atraient l’interès per nous dispositius de processat de la informació i memòries, noves tecnologies per integració heterogènia de múltiples funcions, i nous paradigmes d'arquitectures de sistemes. Una d'aquestes tecnologies prometedores per processat de la informació és la tecnologia de relés micro- i nano electromecànica, perquè presenta fuites de corrent pràcticament nul·les i una commutació entre dos estats molt abrupta. Aquesta tesi proposa explorar les possibilitats d'aprofitar les capes disponibles de la tecnologia CMOS comercial AMS 0.35 µm per implementar relés micro i nano electromecànics. En concret, s’exploren dos conceptes diferents: un són relés actuats en el pla i definits usant solament la capa d’interconnexió anomenada via, i l’altre són relés actuats torsionalment i formats amb metalls i vies (sovint anomenat com compost) a la vegada que suportat per vies. Ambdós conceptes es basen en la capa de tungstè VIA3, la qual inclou característiques claus tals com gran duresa, alt punt de fusió, poc estrès, i gran resistència a l’àcid fluorhídric (HF), ja que les estructures mecàniques s'alliberen mitjançant un procés post-CMOS sense màscares basat en una solució d'HF. Gràcies a les característiques excepcionals de la plataforma de VIA3, també s’han fabricat ressonadors MEMS basats en l'esmenada plataforma, el que ha permès contribuir al disseny i la caracterització d'un oscil·lador de doble freqüència que consisteix en ressonadors torsionals de tungstè i en un amplificador de transimpedància ultra-compacte, de baix consum i amb un alt guany. Finalment i paral·lel al principal fil de la tesi, també s’han desenvolupat capacitats commutables en col·laboració amb l’empresa SilTerra Malaysia Sdn. Bhd. Aquests dispositius es caracteritzen per estar totalment integrats en el procés d'una tecnologia comercial CMOS de 180 nm de baix cost (usant la plataforma SilTerra MEMS-on-CMOS).
dc.description.abstract
Recently, several new emerging devices are starting to be explored because the traditional down-scaling approach of the complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) technology (often called “More Moore”) is reaching fundamental limits; mainly due to non-zero transistor off-state leakage. This brand-new domain that goes beyond the boundaries of Moore’s law is commonly named ``More than Moore'' and is driving interest in new devices for information processing and memory, new technologies for heterogeneous integration of multiple functions, and new paradigms for system architecture. One of these new promising technologies for logic and information processing is the micro- and nanoelectromechanical (M/NEM) relay technology, because of its immeasurably low off-state leakage current and super-steep switching behavior. This dissertation proposes to explore the possibilities of leveraging the available layers of the commercial CMOS technology AMS 0.35 µm to implement M/NEM relays. Specifically, two different approaches are explored: in-plane actuated relays defined using solely the via layer, and torsional actuated relays formed with metal and via layers (usually named composite) while supported by vias. Both approaches are supported by the tungsten VIA3 layer, which includes key features such as high hardness, high melting point, low stress and resistance to hydrofluoric (HF) acid, since the mechanical structures are released in a maskless post-CMOS process based on a wet HF enchant. Based on the key structural features that the developed relays showed, MEMS resonators based on the VIA3 platform were also fabricated. In this dissertation, we also present a particular contribution involving the design and characterization of a dual-frequency oscillator that consist of such reliable torsional tungsten resonators and a high gain, low power and ultra-compact transimpedance amplifier (TIA). Finally and parallel to the main thread of this dissertation, RF MEMS switched capacitors are developed as a result of the collaboration with the semiconductor manufacturing enterprise SilTerra Malaysia Sdn. Bhd. These devices have the particularity of being fully integrated into the process flow of a low cost, commercial 180 nm CMOS technology (using the SilTerra MEMS-on-CMOS process platform).
dc.format.extent
198 p.
dc.format.mimetype
application/pdf
dc.language.iso
eng
dc.publisher
Universitat Autònoma de Barcelona
dc.rights.license
L'accés als continguts d'aquesta tesi queda condicionat a l'acceptació de les condicions d'ús establertes per la següent llicència Creative Commons: http://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/
dc.rights.uri
http://creativecommons.org/licenses/by-sa/4.0/
*
dc.source
TDX (Tesis Doctorals en Xarxa)
dc.subject
CMOS-MEMS
dc.subject
Relé mecànic
dc.subject
Relé mecánico
dc.subject
Mechanical relay
dc.subject
Integració monolítica
dc.subject
Integración monolítica
dc.subject
Monolithic integration
dc.subject.other
Tecnologies
dc.title
Micro and Nano-electro-mechanical devices in the CMOS back end and their applications
dc.type
info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
dc.type
info:eu-repo/semantics/publishedVersion
dc.subject.udc
621
dc.contributor.authoremail
martin.riverola@uab.cat
dc.contributor.director
Barniol i Beumala, Núria
dc.embargo.terms
cap
dc.rights.accessLevel
info:eu-repo/semantics/openAccess


Documents

mrb1de1.pdf

8.359Mb PDF

This item appears in the following Collection(s)