Epitaxial Ferroelectric Thin Films on Si(001): strain tuning of BaTiO3 and stabilization of polar phase in Hf0.5Zr0.5O2

Autor/a

Lyu, Jike

Director/a

Sánchez Barrera, Florencio

Tutor/a

Rodríguez Viejo, Javier

Data de defensa

2019-09-12

ISBN

9788449089039

Pàgines

189 p.



Departament/Institut

Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física

Resum

Vegeu resumjily1de1.pdf

Paraules clau

Òxids ferroelèctrics; Óxidos ferroeléctricos; Ferroelectric oxides; Òxdis epitalixals sobre silici; Óxidos epitaxiales sobres silicio; Epitaxial oxides on silicon; Deposició làser compulsada; Deposición láser compulsada; Pulsed laser deposition

Matèries

5 - Ciències pures i naturals

Àrea de coneixement

Ciències Experimentals

Documents

jily1de1.pdf

16.48Mb

resumjily1de1.pdf

99.82Kb

 

Drets

L'accés als continguts d'aquesta tesi queda condicionat a l'acceptació de les condicions d'ús establertes per la següent llicència Creative Commons: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
L'accés als continguts d'aquesta tesi queda condicionat a l'acceptació de les condicions d'ús establertes per la següent llicència Creative Commons: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/

Aquest element apareix en la col·lecció o col·leccions següent(s)