Epitaxial Ferroelectric Thin Films on Si(001): strain tuning of BaTiO3 and stabilization of polar phase in Hf0.5Zr0.5O2

Autor/a

Lyu, Jike

Director/a

Sánchez Barrera, Florencio

Tutor/a

Rodríguez Viejo, Javier

Fecha de defensa

2019-09-12

ISBN

9788449089039

Páginas

189 p.



Departamento/Instituto

Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física

Resumen

Vegeu resumjily1de1.pdf

Palabras clave

Òxids ferroelèctrics; Óxidos ferroeléctricos; Ferroelectric oxides; Òxdis epitalixals sobre silici; Óxidos epitaxiales sobres silicio; Epitaxial oxides on silicon; Deposició làser compulsada; Deposición láser compulsada; Pulsed laser deposition

Materias

5 - Ciencias puras y naturales

Área de conocimiento

Ciències Experimentals

Documentos

jily1de1.pdf

16.48Mb

resumjily1de1.pdf

99.82Kb

 

Derechos

L'accés als continguts d'aquesta tesi queda condicionat a l'acceptació de les condicions d'ús establertes per la següent llicència Creative Commons: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
L'accés als continguts d'aquesta tesi queda condicionat a l'acceptació de les condicions d'ús establertes per la següent llicència Creative Commons: http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/

Este ítem aparece en la(s) siguiente(s) colección(ones)